MEMSデバイスの超高真空環境下、有機半導体デバイスのガス置換環境下
高低温オン・ウエハ特性評価

MEMSデバイス

RF MEMSデバイスやMEMSタイミングデバイスなど、真空環境での動作を必要とするMEMSデバイスの、高低温（-60℃ ～ +300℃ / +400℃）オン・ウエハ測定に対応できます。
当システムの導入により、非常に高価なプロセスであるパッケージングコストを削減することが可能になります。
インピーダンスアナライザや、RFネットワークアナライザ等を組み合わせることにより、オン・ウエハで、共振特性やトランスミッション特性シミュレーション、SパラメータなどのMEMSデバイス特性を自動取得することができます。

有機半導体デバイス

OFET，OTFT，OEL，OLEDなどの有機半導体デバイスの研究開発段階では、大気中の水分や酸素による
特性劣化を避けるために、高純度な不活性ガス環境下で測定を行う必要があります。
当システムの導入により、真空引き－ガス置換による高純度不活性ガス（N2やAr）環境下で有機半導体
デバイスの高低温（-60℃ ～ +300℃）測定に対応できます。
システムは微小信号測定に対応しており、各種有機半導体デバイスの高精度I-V・C-V測定要求にお応えします。

アプリケーション

• 真空環境下、高純度ガス置換環境下での＋15℃～+300℃ /+400℃ または-60℃～+300℃範囲の温度特性試験
• 任意真空度環境下（1 x 10E -2Pa ～100,000Pa）での自動特性試験
• 微小信号I-V測定(fAレベル)
• 各種C-V測定(Quasi-Static C-V, HF-CV,RF-CV)
• 各種RF測定(～67GHz)

システム概要

代表仕様

項目	HSP-V150	HSP-V200
対応ウエハサイズ	～φ150mm	～φ200mm
到達真空度	1 x 10E -3Pa （1 ｘ10E-5 Pa オプション）
真空度調圧範囲	1 x 10E -2Pa ～100,000Pa±10％
ステージXY移動範囲	X：160mm,Y：160mm	X：210mm, Y：210mm
ステージXY繰り返し精度	＜±2um
ステージXY位置決め精度	＜±5um
ステージZ移動範囲	20mm
ステージZ繰り返し精度	＜±1um
ステージθ移動範囲	±7.5°
ステージθ位置決め分解能	0.0002°
システム寸法（W×D×H）※	2500×1800×1900 mm	2700×2000 ×1900 mm
システム重量※	約1300kg	約1600kg

※システムの構成により変動します。
●記載の仕様は予告なく変更される場合があります。

標準的な自動測定対応ソフトウェア

キーサイト・テクノロジー	・EasyEXPERT group+ ・WaferPro Express ・SPARK他
TFF/ケースレーインスツルメンツ	・4200A-SCS KITE (Keithley Interactive Test Environment) ・ACS
ProPlus Design Solutions	・Noisepro

※その他、GP-IB通信対応ソフトウェアで制御可能です。

システムインテグレーション

インテグレーション実績有 ユニットメーカー様（順不同、敬称略）

HOYA(株)、ブイ・テクノロジー(株)、朝日分光(株)、浜松ホトニクス(株)、エヌピイエス(株）　他 多数

ハイソル 自動測定対応ソフトウェア

ハイソル セミオートプローバーと各種測定器を自動制御するカスタムソフトウェアをご提供します。
お客様のご要求測定アプリケーションに最適な自動測定ソフトウェアを製作構築させて頂きます。

ソフトウェア製作事例

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