不活性ガスを一切使用せず
低電流で簡単スパッタリング
導電性のない試料のSEM観察を行う際など、
試料表面の帯電防止用コーティングに最適な卓上型のスパッタリング装置です。
洗練されたコンパクトなデザインと
タッチパネルを採用したシンプルなUIが
快適な操作性をお約束致します。
概要
- 不活性ガス不要
- ワンタッチで真空引きからコーティングまで実行
- 条件はライブラリーへ保存 (最大10個)
- サンプルは最大7個まで同時加工
- 低電流によるサンプルへのダメージ軽減
- Au,Ag,Ptによる成形(最大50mmφ)
- 本体+ポンプ+ターゲット1枚のセットで
即日使用可能
参考動画
仕様
本体
外形寸法 | 350×210mm (H230mm) |
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本体重量 | 10kg |
電源 | 110V±10%、50/60Hz |
イオン電流 | 1~10mA (1mA / step) |
スパッタ処理時間 | 1~600秒(1sec / step)※10mA 100秒で約15nmの成形 |
ターゲット材質 | Au, Ag, Pt (50mmφ / 99.99%) |
チャンバーサイズ | 140mmφ(H100mm) |
対応サンプルサイズ | 50mmφ(H30mm) |
真空ポンプ
型式 | VPS100W |
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方式 | ロータリー |
到達圧力 | 2.0 X 10-1 Torr |
排気速度 | 100L / min |
電源 | 110V±10%、50/60Hz |
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