洗浄後のウエハー表面検査に最適で、透明・不透明ウエハーどちらも1台で測定できます。
スラリーや異物といったパーティクルの位置や分布、サイズ、個数などを表示させることが可能です。
高性能でありながら、常識を覆す超低価格です。

使用用途

• 洗浄工程の確認
• CMP工程のモニタリング
• ウエハーの出荷検査
• 製造装置導入時のパーティクル確認
• 前工程 / 後工程装置のモニタリング

特徴

• 超低価格・高性能
• 最小60nmサイズの検出(卓上型のYPI-MNは150nm迄)
• 自動搬送にも対応(カセット to カセット)
• 測定時間は僅か数分
• 2～12インチウエハーに対応(卓上型のYPI-MNは8インチ迄)
• レーザー光散乱方式による検査
• 透明・不透明、どちらも測定可

測定対象ウエハー(例)

• 【透明ウエハー】
  SiC, GaN, AlN, LT/LN, 石英, サファイア

  

• 【不透明ウエハー】
  Si, GaAs, InP

  

光散乱方式の検出方法

【トップビュー: レーザーと検出器のレイアウト】

レーザ光源とディテクタは固定され、ステージが回転しながら一方向に移動することにより、外周部から内周部へ螺旋走査方式でウェーハ全面をスキャンをしています。

レーザ光がウェーハ表面異物に当たる際に発生する散乱光をPMTで捕捉し、光電変換する事により、異物の発生位置とサイズを検出し、測定結果マップに表示します。

【サイドビュー: レーザーと検出器のレイアウト】

測定イメージ

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