膜計測用エリプソメータ – ハイソル株式会社

非破壊・非接触・超高速全面マッピング

自然酸化膜やレジスト膜などの薄膜の膜厚/屈折率の測定。
独自開発のPCAセンサにより、最大毎分20,000点以上のハイスピードで高精度に膜厚の面内分布が測定可能です。

ウエハサイズは8インチ(オプションで12インチ)まで対応可能、SMIFポッド対応し、研究開発から量産まで対応しております。

0.1nm(1Å)レベルの膜厚ムラの測定も可能、透明基板にも対応しております(ME-210-T)。

概要

ウエハ表面酸化膜の膜厚分布

2mm間隔測定(測定時間約3分)

測定時間を短時間にすることで、枚数が多い場合や全体傾向を短時間で取得可能です。

0.5mm間隔測定(測定時間約33分)

測定間隔を狭くすることで、ウエハ全体の詳細な膜厚分布情報を取得することが可能です。

透明基板上の膜厚分布

膜計測用エリプソメータ

スピンコートしたレジスト膜厚分布

膜計測用エリプソメータ

有機層の膜厚分布

高速・低価格・コンパクトなエリプソメータ

独自センサ搭載によるコンパクトな設計かつ拡張性の高い、卓上型点測定装置。

従来のエリプソメータは、偏光子を回転させる駆動系仕様となり、装置が大型になり、コンパクトなサイズでの装置設計。

最速1/70秒間隔のリアルタイムの測定が可能であり、膜厚の時間変動解析にも有効です。
ヘッドユニットを取り外したモジュールとしても活用できます。

	ME-210	ME-210-T	SE-101
測定方式	PCA(フォトニック結晶アレイ並列処理)方式
測定再現性	膜厚：0.1nm、屈折率：0.001
光源	半導体レーザ（typ. 636 nm）
測定スポット	広域モード：550 µm角中間モード：55 µm角高精細モード：5.5 µm角		約1.0 mm角
入射角度	標準70度
ステージサイズ	最大8インチウエハ対応		最大4インチウエハ対応
透明基板対応	–	〇	–
測定速度	最高毎分20,000点以上（高精細測定時）		約0.1秒 / 1測定点
本体寸法	幅：650 mm 奥行き：650 mm 高さ：1,740 mm		幅：250 mm 奥行き：175 mm 高さ: 220 mm
重量	約 120 kg		約 4 kg
製品内容	システム1式ソフトウェア（インストールCD）標準サンプル取扱説明書