2次元複屈折測定装置PAシリーズ

2次元複屈折測定装置

2次元複屈折測定装置

ウエハ歪み(位相差・位相軸方位)の全面評価

独自の偏光カメラを使用することでウエハの全面評価を短時間でかつ定量評価することが可能な装置です。
ウエハの内部歪み・加工応力の定量化ができます。

対象となるウエハは、SiC、GaN、人工ダイヤモンドウエハ。
GaAsウエハも赤外線波長を使用することで、測定可能(PA-300-NIR)。

概要

  • 屈折率・位相差分布を500万画素の高解像度による測定
  • 独自の偏光カメラによるウエハ全面の面内分布を高速測定
  • 独自ソフトフェアによる多彩なグラフ表示・解析が可能
  • ウエハ以外に、ガラス製品、レンズなどの小さな位相差も測定対象

測定事例

SiCウエハの測定

2次元複屈折測定装置
2次元複屈折測定装置

SiC 8inch(オフ角 4度)

GaNウエハの測定

2次元複屈折測定装置

GaN 3inch 位相差表示

2次元複屈折測定装置

GaN 3inch 結晶軸方位

人口ダイヤモンドウエハの測定

2次元複屈折測定装置

モノクロ輝度画像

2次元複屈折測定装置

結晶欠陥データ

GaAsウエハの測定

2次元複屈折測定装置

GaAs 位相差表示

主な仕様

PX-300-XL PA-300-L PA-Micro
特徴 A3サイズまで測定 A4サイズまで測定 顕微鏡視野まで測定
測定視野 242×290 mm ~
360×480 mm
37×44 mm ~
240×320 mm
140×170 µm ~
3.5×4.2 mm
オプションレンズ視野 対応不可 ズーム
5.5×6.6 mm ~
25×30 mm
×100
40×53 µm
出力される数値 位相差(nm)・軸方位(°)
測定レンジ 0~130 nm
繰り返し再現性 σ < 0.1 nm
測定波長 520 nm
筐体サイズ 650×600×1930 mm 430×487×1166 mm 270×500×610 mm
重量 46 Kg 23 Kg 18 Kg
構成 本体 PC(ソフトウェアインストール) 説明書など書面
※PA-microの場合、顕微鏡一式

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