モデルMPS-C-300 / 350 代表仕様

モデル名：
　MPS-C-300：最大発生磁場 0.3 T 仕様
　MPS-C-350：最大発生磁場 0.6 T 仕様

特長

• – 最大 0.6 T の 3次元(3D)磁場印可に対応
• – φ 100 mm または φ 200 mm のウェハレベル測定
• – φ 10 mmエリアの磁場均一性 ±2 %
• – 磁場安定性 <0.1 %，磁場角度精度 ±0.1 °
• – 磁場強度をクローズドループ制御するための3Dホールセンサ(オプション)
• – 励磁電源は、極性スイッチング基板付きユニポーラ電源 または バイポーラ電源から選択可能
• – 豊富なマイクロスコープ選択肢
  　プロービング中の磁性ドメインイメージング観察用の偏光顕微鏡(オプション)
• – DC・I-V・LCR・最大67 GHz RF測定，非磁性プローブ・ケーブル
• – バキュームベースマイクロポジショナを最大6台搭載可能
• – MicroXact 磁場制御ソフトウェア
  　カスタマイズ可能なオープンソースのLabVIEWベース制御ソフトウェアで、一般的な磁気デバイステストと各種測定器の制御を容易に統合できます。
• – 環境・シールド遮光エンクロージャー(オプション)
• – サーマルテスト機能(オプション)
• – お客様の測定ニーズにお応えする高度なカスタマイズ対応

仕様

サンプルサイズ	– φ100 mm（標準），φ200 mm（オプション）
磁場印可	– 磁場印可方向：任意の3D – 最大発生磁場：0.6 T（モデル MPS-C-350） 　　　　　　　 0.3 T（モデル MPS-C-300） – 磁場ベクトル角度精度：±0.1 ° – 直径10mm領域 磁場均一性：±2 ％ – 磁場安定性：＜ 0.1 ％
電磁石	– 水冷式 3軸直交 C型電磁石 　*チラーまたは水道水の接続が必要です。 – 励磁電源：極性スイッチング基板付きユニポーラ電源（標準） 　　　　　Kepco社 4象限リニアバイポーラ電源（オプション）
磁場フィードバック	– 3Dホールプローブによるアクティブフィードバック制御（オプション） 　*オープンループでも使用可能 – サンプリングレート：50 ms ～ 2.5 s
ウェハチャック	– ウェハ固定方式：真空吸着固定（標準3ゾーン） – 接地型（GND） – 絶縁型（フローティング） – コアキシャル – トライアキシャル – サーマルチャック：-50 ℃ ～ +150 ℃（オプション）
プローブ	– 非磁性 DCプローブ(同軸，トライアキシャル，バナナ)* 最大6プローブ – 非磁性 RFプローブ(DC ~ 67 GHz)* 最大3ポート(120 ° 配置) – バキューム固定ベース 各種マニュアルポジショナ
チャックX-Yステージ	– 100 mmモデル：X 100 mm × Y 100 mm ストローク・手動 – 200 mmモデル：X 200 mm × Y 200 mm ストローク・手動 – 分解能：2.5 µm
プラテンZ軸	– 12.5 mmストローク・手動
光学系	– 各種ズーム鏡筒 – 同軸落射照明またはLEDリング照明 – 偏光顕微鏡(磁性ドメインイメージング)
カメラ	– 1M～10Mピクセルデジタルカメラより選択 　 画像および動画キャプチャ，寸法測定機能付きソフトウェア付属
環境シールド・遮光	– 環境・シールド遮光エンクロージャー(オプション)
除振機能	– 空気ばね式除振台(オプション)
ソフトウェア	– MicroXact MPS 磁場制御ソフトウェア付属 　コンスタント，リニアスイープ，カスタムスイープ機能

●システムの構成により仕様に変更・制限が入る場合があります。
●記載の仕様は予告なく変更される場合があります。

　MicroXact社は米国バージニア州に拠点を置く、真空・極低温・超高温・磁場印可をキーワードとしたユニークかつ先進的なプローブ・システムを製造・販売する企業です。2004年の設立以来、現在までに25以上の国と地域に納入実績があり、超伝導エレクトロニクス、量子コンピューティング、スピントロニクス、グラフェン、ナノエレクトロニクスなどの科学研究のイノベーションをサポートし続けています。
　ハイソル株式会社は、MicroXact社製品の日本総代理店です。

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