現像・エッチング・RCA洗浄に対応
薬液の循環再利用に対応・環境負荷低減へ
1つのチャンバー内で薬液処理から
リンス乾燥までのフルプロセスの実現が可能です。
シールド板の搭載により、チャンバー内の下段部・中段部とで異なる薬液の使用も可能となります。
カスタム対応が可能となり、自動機・セミオートの装置選択もできます。
概要
- ワンチャンバーでウェットプロセスが完結
- お客様のご要望に応じたカスタム製造 (研究開発用のセミオート対応)
- 薬液の温調循環再生利用が可能で環境負荷低減・トータルのコスト削減へ
- アルカリと酸の基板処理を同一チャンバー内で処理も可能
- シールド板(特許取得済)が付属することでプロセス中の下段部及び中段部からの薬液の飛散を抑えることが可能
- 自動化により作業者の負荷軽減、人的ミスのリスク低減
- 極薄・脆弱な基板で対応することが可能
主仕様
使用用途 | ウェットエッチング/リフトオフ/レジスト剥離/洗浄 |
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装置寸法 | (例) W2000×D1850×H1960 mm |
対象ウエハサイズ | (例)4インチ、6インチ、8インチ |
電源 | 200V、3層、50/60Hz |
処理液 | 有機系剥離液、純水 |
薬液供給 | 薬液循環回収 |
レシピ数 | 40 |
ステップ数 | 50 |
※ご要望に応じて、その都度仕様は変更となります。対象サイズも柔軟に対応致します。
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